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等离子专利技术涉及多个领域，包括材料科学、电子工程、化学工程等，以下是一些主要的等离子专利技术：
1、等离子体表面处理技术：这是一种用于改变材料表面性质的技术，通过等离子体与材料表面相互作用，清洁表面、激活化学键、改变表面微观结构等，提高材料的润湿性、粘附性、生物相容性等。
2、等离子体刻蚀技术：这是一种在微电子、半导体等领域广泛应用的微纳米加工技术，通过等离子体与材料发生化学反应或物理撞击，去除材料表面的一部分，形成精确的图案或结构。
3、等离子体显示技术：这是等离子在显示领域的应用，利用等离子体中的带电粒子激发混合气体发出紫外线，再通过荧光物质将紫外线转化为可见光，实现显示。
4、等离子体喷涂技术：这是一种利用高温等离子体将粉末材料加热并加速，然后沉积在基材表面形成涂层的技术，常用于制造耐磨、耐腐蚀、导电等涂层。
等离子专利技术的具体细节和进展因应用领域和具体技术而异，随着科学技术的不断发展，等离子专利技术在更多领域得到应用和发展，如果您需要更详细的信息，建议咨询相关领域的专家或查阅最新的科研文献。
